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雙頻激光干涉儀

LH1000雙頻激光干涉儀

產(chǎn)品描述:

光刻機(jī)專用雙頻激光干涉儀
可構(gòu)建XY位移臺等多軸測量系統(tǒng)
采用直接輸出線偏振光、大功率、大頻差雙頻激光器
無圓偏振光轉(zhuǎn)線偏振光非線性誤差
大功率可同時測量更多數(shù)量的軸向位移
大頻差,測量速度更快

服務(wù)熱線:4008168900
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Information in English:

LH1000 Dual-frequency Interferometer.pdf

Nonlinear error analysis and experimental measurement of Birefringence-Zeeman dual-frequency laser interferometer.pdf


專為光刻機(jī)配套開發(fā)的高精度測量系統(tǒng);

通過國家重大專項“極大規(guī)模集成電路制造技術(shù)及成套工藝”項目驗收。

采用直接輸出線偏振光的雙頻激光器;

非線性高精密測量系統(tǒng),測量更精準(zhǔn);

可提供1~20MHz頻差內(nèi)任意頻差產(chǎn)品,滿足各種測量速度需要。

光源和測量信號接收單元分體式設(shè)計,方便搭建XY位移臺等多軸測量系統(tǒng);

精巧的測量信號光纖接收頭,即使空間狹小也能方便安裝;

標(biāo)準(zhǔn)光刻機(jī)干涉儀安裝尺寸和數(shù)據(jù)接口,可直接替換現(xiàn)有產(chǎn)品。

(欲了解更多單頻與雙頻干涉儀的性能特點和差異,請閱覽本網(wǎng)站解決方案欄目中的:雙頻激光干涉儀



型號

頻差(MHz)

最小出光功率(μW)

光斑尺寸(mm)

穩(wěn)頻精度(ppm)

LH1000A

1.5±0.5

>500

6

±0.02

LH1000B

2.5±0.5

> 500

6

±0.02

LH1000C

3.5±0.5

> 500

3, 6, 9

±0.02

LH1000D

4.5±0.5

>500

6, 9

±0.02

LH1000DL

5.5±0.5

> 500

6, 9

±0.02

LH1000EL

6.5±0.5

>500

6

±0.02

LH1000FL

7.5±0.5

>500

6, 9

±0.02

LH1000GL

8.5±0.5

> 500

9

±0.02

LH1000H

9.5±0.5

> 500

3, 6, 9

±0.02

LH1000I

10.0-20.0(按需定制)

> 500

3, 6, 9

±0.02

注:可根據(jù)需求定制更小頻差范圍。

微信截圖_20210616121113.png

 


懇請注意:因市場發(fā)展和產(chǎn)品開發(fā)的需要,本產(chǎn)品資料中有關(guān)內(nèi)容可能會根據(jù)實際情況隨時更新或修改,恕不另行通知,不便之處敬請諒解。

LH1000雙頻激光干涉儀應(yīng)用于尼康光刻機(jī)后,其工作臺精度由原來的23nm提高到6nm!

圖片1.jpg


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